真空镀膜的方法

〖壹〗 、真空镀膜主要有三大类技术：物理气相沉积（PVD）
、化学气相沉积（CVD）和离子镀。不同方式在工艺特点、膜层性能和适用场景上各有侧重 。 物理气相沉积（PVD） 『1』蒸发镀膜：在真空环境下 ，通过电阻加热或电子束轰击等方式使材料蒸发
，随后汽化粒子沉积在基片表面
。

〖贰〗 、真空镀膜的方法主要包括以下几种：真空蒸镀法定义：将装有基片的真空室抽成真空，加热被蒸发的镀料 ，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸气流并入射到基片表面凝结成固体薄膜。分类：电阻加热蒸发源：利用低电压大电流加热灯丝和蒸发舟
，使镀料熔化、蒸发或升华 。结构简单
、造价低廉、使用普遍。

〖叁〗 、真空蒸发镀膜法是在真空室中加热蒸发原材料，使其原子或分子气化逸出形成蒸气流 ，入射到基片表面凝结成固态薄膜的方法
，又称热蒸发法
。以下从原理
、设备改进、特点几方面详细介绍：原理将膜材置于真空镀膜室内，通过蒸发源对其加热蒸发。

〖肆〗 、真空镀膜工艺主要包括以下几种：电子束蒸发镀膜：利用电子束加热蒸发源 ，使镀膜材料气化并沉积在滤光片基底上 。这种方法能够精确控制蒸发速率和膜厚
，具有高蒸发速率
、可蒸发高熔点材料等优点，但对设备要求较高
。溅射镀膜：通过高能粒子撞击靶材 ，使靶材原子溅射出来并沉积在基底上。

〖伍〗、方法：采用试剂浸泡 、酒精或白电油擦拭
、静电除尘、超声波清洗等前处理方法 。底层涂装 目的：增强塑材和镀膜之间的附着力和密着力
，使蒸镀出来的金属膜光泽更好，有效覆盖塑材本身的污点 ，防止真空镀膜时光泽降低
。操作：在基材表面均匀涂覆一层底层涂料
，确保涂料能够覆盖基材表面的不规则和不均匀部位。

〖陆〗 、真空镀膜机镀前预处理旨在获得干净新鲜的金属表面，为高质量镀层做准备；镀后处理则包括钝化处理和除氢处理等方法 ，以提高镀层性能 。

三种常见的沉积薄膜方法

三种常见的沉积薄膜方法为真空蒸发镀膜
、溅射镀膜和离子镀膜，以下是对这三种方法的详细介绍：真空蒸发镀膜 原理：在真空条件下
，用蒸发器加热蒸发物质，使之升华 ，蒸发粒子流直接射向基片
，并在基片上沉积形成固态薄膜
。

PVD的主要方法包括真空蒸镀、溅射镀膜等，可沉积金属膜 、合金膜 ，还可以沉积化合物、陶瓷
、半导体、聚合物膜等。PVD技术广泛应用于集成电路制造中
，用于形成导电层 、保护层等 。CVD（化学气相沉积）CVD是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质，在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法
。

AlN薄膜沉积方法多样 ，常见包括MOCVD
、溅射、PLD 、MBE
、ALD与电子束蒸发。MOCVD利用三甲基铝与氨气在特定条件下反应形成薄膜 。溅射方法则以纯铝靶材
，通过氩离子撞击靶材，铝原子与氮气反应生成AlN。PLD通过高能激光击打铝靶 ，形成等离子体并沉积AlN
。

特点：热蒸发沉积是一种简单且常用的方法
，适用于铬、锗或金等材料的沉积。其他薄膜沉积技术 除了CVD和PVD之外，还有其他一些薄膜沉积技术 ，如聚对二甲苯聚合物沉积等 。这些技术具有各自的特点和应用领域
。

薄膜制备工艺按照其成膜方法可分为两大类：物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD），其中CVD工艺设备占比更高。

常见的光学镀膜

常见的光学镀膜主要包括：anti-reflection镀膜（AR膜或减反膜） 、超低反射镀膜以及化学镀膜 。anti-reflection镀膜（AR膜或减反膜）AR膜的主要目的是降低光学元件表面的反射率
，从而减少杂光，提高成像质量
。其基本原理是利用膜层两个界面的反射光相位相反 ，实现干涉相消
，从而减少反射光强。

常用的光学镀膜材料分为金属类
、氧化物类、氟化物类和其他化合物类 。金属类包括锗 、铬
、铝、银 、金等
。锗是一种稀有金属，无毒无放射性 ，广泛用于半导体工业、塑料工业
、红外光学器件、航天工业 、光纤通讯等领域。铬在某些应用中用作分光镜上的增强附着力层 。铝在紫外域中是反射性能比较好的金属之一
。

氟化镁是一种常用的光学镀膜材料。它以无色四方晶系粉末的形式存在
，具有高纯度的特点 。使用氟化镁制备的光学镀膜能够提高透过率，并且不会产生崩点 ，这使得它成为一种理想的光学镀膜材料。二氧化硅也是一种重要的光学镀膜材料
。它以无色透明晶体的形式存在
，具有高熔点和硬度，以及良好的化学稳定性。

减反射膜：例如 ，照相机
、幻灯机、投影仪 、电影放映机
、望远镜、瞄准镜以及各种光学仪器透镜和棱镜上所镀的单层MgF薄膜
，双层或多层的由SiOFrOAlO 、TiO等薄膜组成的宽带减反射膜 。

给望远镜镀膜的方法

〖壹〗
、望远镜镀膜的主要方法包括真空镀膜、化学镀膜 、离子辅助镀膜等，其中真空镀膜是应用最广泛的核心技术 ，不同镀膜工艺针对不同光学需求设计
。

〖贰〗
、给望远镜镀膜的核心方法是通过真空镀膜工艺在光学镜片表面覆盖特定薄膜，利用光的干涉效应减少反射损失并提升透光率。

〖叁〗、望远镜镀膜的方法有多种： 真空镀膜法：这是较为常见的一种方法 。将望远镜的光学部件放置在高真空环境中
，通过加热蒸发或溅射等方式，使镀膜材料（如氟化镁等）以原子或分子的形式沉积在镜片表面 ，形成均匀 、致密的薄膜
。

〖肆〗、给望远镜镀膜的方法是通过在光学镜片表面覆盖薄膜
，利用光的干涉效应减少反射损失，提升特定波长光线的透光率。具体方法如下：镀膜材料与工艺基础镀膜材料主要包括氟化镁（MgF）
、二氧化钛（TiO）等 ，这些材料通过真空镀膜工艺在镜片表面形成功能层 。真空环境可避免杂质污染
，确保膜层均匀性
。

〖伍〗、选购建议千元以内望远镜：通常采用单层或局部多层镀膜，若宣称FMC则需谨慎验证。高端望远镜：优先选取全表面多层镀膜（FMC） ，如博士能PC-3技术产品 。观察反射光：反光暗淡且色彩中性的望远镜
，镀膜质量更优
。望远镜镀膜技术通过精密的光学设计，显著提升了成像质量与观测体验。

〖陆〗 、常用光学镀膜的方式 常用光学薄膜的的方式有两种；真空镀膜
、涂镀（也称为化学镀膜） 。真空镀膜是在真空度达到4X10-3Pa. 温度达到300℃下 ，镀上单层（氟化镁）或多层（二氧化硅
，三氧化二铝，氧化锆 ，氟化镁），一般宽带膜为三层或四层膜。其特点是强度高
，牢固性好，透过率高
。

物理蒸镀法(PVD)的各种镀膜方法

〖壹〗、物理蒸镀法（PVD）的各种镀膜方法主要包括蒸发系和溅射系两大类：蒸发系蒸发系镀膜方法是将薄膜物质加热蒸发 ，在比蒸发温度低的基本表面上凝结成固体形成薄膜。真空蒸镀（Vacuum Deposition）：原理：在真空容器中放入蒸发源和基板
，通过加热蒸发源使薄膜物质气化，并在基板上凝结成薄膜 。

〖贰〗 、PVD的主要方法PVD技术的主要方法包括真空蒸镀
、溅射镀膜、电弧等离子体镀 、离子镀膜及分子束外延等
。以下是三种常见的沉积薄膜的方法：真空蒸镀（Vacuum Evaporation）原理：在真空室内通过加热使材料靶材蒸发 ，形成蒸汽流。同时保证待镀件较低的温度
，使得靶材在待镀件表面凝固 。

〖叁〗
、PVD（Physical Vapor Deposition）是一种在真空条件下，采用物理方法使材料源表面气化成原子、分子或离子 ，并在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术
。PVD主要分为蒸镀 、溅射和离子镀三大类
，每种方式都有其独特的优点和缺点。

〖肆〗
、PVD镀膜主要有两种主流方式：真空蒸发镀膜和溅射镀膜 。本文将从定义、基本过程 、分类比较以及真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜
、真空离子镀膜的特点等方面进行介绍，供朋友们借鉴
。

〖伍〗、制备金属导电层（如ITO透明导电膜）。装饰涂层：通过反应镀膜生成彩色金属氧化物薄膜 ，用于珠宝 、手表等装饰领域 。半导体器件：在集成电路中沉积金属互连层或钝化层
。物理气相沉积技术中
，蒸镀以其高效
、可控的特点成为薄膜制备的基础方法，但需结合具体材料特性选取蒸发源及工艺参数 ，以平衡沉积质量与成本。

〖陆〗、物理气相沉积是指在真空条件下，采用物理方法将材料源表面气化成气态原子或分子
，或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程 ，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术 。PVD镀膜技术主要分为三类：真空蒸发镀膜 、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。

镀膜和镀晶怎么做?

镀晶的做法
，镀晶是一种液体状物质，当涂上车身的表面以后 ，其会自然结晶
，形成固体物质
。流程是先洗车-抛光-镜面釉-脱脂洗车-镀膜分三次，每次间隔30分钟。最后一次高温蒸镀 。渡晶是需要高温蒸汽蒸镀的 ，只有经过125度的高温蒸镀才能达到真实的结晶
。配图请自行查。镀膜和镀晶的亮度不同 。

镀晶的做法：近来比较流行的是镀晶
，是一种液体状物质，当涂上车身的表面以后 ，其会自然结晶
，形成固体物质
。流程是先洗车-抛光-镜面釉-脱脂洗车-镀膜分三次，每次间隔30分钟。最后一次高温蒸镀 。

先做好保护工作 ，先要遮住前挡风玻璃
、车牌标识和边缝，防止产品飞溅照成的后续处理问题
。用抛光剂和超细去旋纹剂去除漆面的细划痕
，同时对漆面进行还原。